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PRODUCTS / 產(chǎn)品展示

真空高溫爐

簡(jiǎn)要描述:真空高溫爐在使用過(guò)程中,由于爐內真空狀態(tài),不會(huì )產(chǎn)生雜質(zhì)的污染,因此能夠保證材料的高純度。

  • 產(chǎn)品型號:SGXS
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間:2023-04-14
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:949
詳細介紹

真空高溫爐常規型號                          

SG-XS1200 高溫度1200℃  SG-XS1400 高溫度1400℃

SG-XS1700 高溫度1700℃  SG-XS1800 高溫度1800℃

常規爐膛尺寸(mm)    

100x100x100,200x150x150

300x200x200,400x300x300,500x400x400

 *其他馬弗爐型號可以定制

  真空高溫爐是一種特殊的高溫爐,其主要功能是在真空條件下,將材料加熱至高溫狀態(tài),以進(jìn)行熱處理、熔煉、退火等工藝。真空高溫爐廣泛應用于冶金、材料科學(xué)、化學(xué)、電子、光學(xué)等領(lǐng)域。

  一、主要結構

  真空高溫爐主要由爐體、加熱器、溫度控制系統、真空系統、氣體控制系統等組成。其中,爐體是主體部分,其材料選用高溫合金材料或陶瓷材料。加熱器則負責產(chǎn)生高溫,一般采用電阻加熱器、燈絲加熱器、電感加熱器等方式。溫度控制系統負責實(shí)時(shí)監測和控制爐內溫度,使其在設定的范圍內穩定工作。真空系統則負責將爐內空氣排出,保持爐內真空,通常采用機械泵、分子泵、根泵等裝置。氣體控制系統可實(shí)現爐內氣氛的控制,以適應不同工藝需要。

  二、應用領(lǐng)域

  1、金屬材料加工

  一個(gè)重要應用領(lǐng)域是金屬材料的加工。其通常采用熱處理、熔煉、退火等方式,以改變金屬的組織結構、提高硬度、改善材料的耐腐蝕性等性能。

  2、電子器件加工

  真空高溫爐還有廣泛的應用于電子器件的加工過(guò)程中。例如,晶圓退火、金屬薄膜沉積、陶瓷基板制備等工藝都需要使用到真空高溫爐。

  3、光學(xué)玻璃加工

  真空高溫爐還可以用于光學(xué)玻璃的加工。例如,對光學(xué)玻璃進(jìn)行退火處理,可以消除制造過(guò)程中產(chǎn)生的內部拉應力,提高光學(xué)玻璃的品質(zhì)和穩定性。

  4、粉末冶金

  真空高溫爐還可以用于粉末冶金工藝中,例如燒結、熱等靜壓、熱處理等工藝。

  三、主要特點(diǎn)

  1、高純度

  真空高溫爐在使用過(guò)程中,由于爐內真空狀態(tài),不會(huì )產(chǎn)生雜質(zhì)的污染,因此能夠保證材料的高純度。

  2、高溫度

  真空高溫爐能夠在非常高的溫度范圍內進(jìn)行加熱處理,通常最高可以達到2000℃。

  3、可控性

  溫度控制系統能夠實(shí)現對爐內溫度的精確控制,以滿(mǎn)足不同工藝需要。

  4、爐內氧化

  由于真空高溫爐爐內不含氧氣,所以加工過(guò)程中可以有效避免材料的氧化。

  5、安全性

  真空高溫爐在加工過(guò)程中爐內幾乎沒(méi)有氣體或液體,因此比傳統的高溫爐更加安全。

  四、部分技術(shù)參數

  1、最高溫度:2000℃

  2、工作室尺寸:根據客戶(hù)要求定制

  3、加熱方式:電阻加熱器、燈絲加熱器、電磁感應加熱器等

  4、真空度:10-2 Pa

  5、控制方式:PLC控制系統

  典型型號:GD-R1600C-5050,最高溫度1600℃,爐體尺寸為500*500*500mm,控制方式為PID自動(dòng)控制系統。

  五、應用案例

  真空高溫爐在壓電陶瓷的制備過(guò)程中有著(zhù)廣泛的應用。壓電陶瓷是一種應用廣泛的功能陶瓷,在醫療、航空、電子等領(lǐng)域得到了廣泛的應用。其性能的好壞主要與陶瓷的晶粒、氣孔、晶間間隙以及氧化物、堿土金屬的雜質(zhì)等有關(guān)。因此,制備高品質(zhì)陶瓷的關(guān)鍵在于控制材料的物理和化學(xué)性質(zhì)。真空高溫爐在壓電陶瓷的制備過(guò)程中,通過(guò)控制陶瓷的溫度和氣氛,有效改善了陶瓷的物理和化學(xué)性質(zhì),提高了制品品質(zhì)和穩定性。

  真空高溫爐在粉末冶金領(lǐng)域也有著(zhù)廣泛的應用。在粉末冶金制備過(guò)程中,真空高溫爐可以起到燒結粉末、改善材料的物理性能等重要作用。同時(shí),其的精確溫度控制和高真空處理能力,能夠實(shí)現對材料的微觀(guān)結構、晶體形貌等方面的控制。

  六、總結

  真空高溫爐是一種重要的加工設備,在多個(gè)領(lǐng)域都得到了廣泛的應用。其優(yōu)點(diǎn)在于爐內真空、高溫高純等特點(diǎn)。隨著(zhù)加工技術(shù)的不斷發(fā)展和更新?lián)Q代,真空高溫爐也在不斷優(yōu)化和升級。預計應用領(lǐng)域將會(huì )更加廣泛,其性能和質(zhì)量也會(huì )更加。

真空高溫爐參數:      

高溫度:

1200℃, 1400℃,1700°C,1800℃

常規爐膛尺寸:

100x100x100, 200x150x150, 300x200x200, 400x300x300, 500*400*400(可定制其他尺寸)

工作電壓:

220V/380V

熱電偶:

K型/S型/ B型

加熱元件:

高品質(zhì)電阻絲/硅碳棒/硅鉬棒

控溫精度:

±1℃

升溫速率:

建議低于15℃/分鐘,可做20℃~30℃/分鐘

控溫方式:

智能溫控儀,30/50段編程PID自整定,智能自動(dòng)升降溫;也可選配RS-485接口連接電腦

爐膛材質(zhì):

輕質(zhì)氧化鋁陶瓷纖維,保溫效果優(yōu)良

箱體設計:

殼體采用雙層強制風(fēng)冷構造,爐膛采用臺階式拼接結構

節能效果:

能效高、節能環(huán)保,

電路安全:

集成模塊電路,具有超溫保護,偏溫保護,斷偶保護,超流超壓保護,漏電保護等功能

電爐應用:

院校和企事業(yè)單位科研及小批量生產(chǎn),應用領(lǐng)域有金屬、化工、陶瓷、電子、機械、玻璃、高新材料,建材等

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